ZEISS Sigma
蔡司 Sigma 系列產(chǎn)品將場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)與優(yōu)秀的用戶(hù)體驗(yàn)完美的結(jié)合在一起。
產(chǎn)品詳情
更簡(jiǎn)單、更智能、更集成
利用 Sigma 直觀的 4 步工作流程，可以使得日常所需的成像和分析的效率得到提高，這樣，將會(huì)在比以往更短的時(shí)間內(nèi)獲得更多的結(jié)果。另外，Sigma可以配備多種探測(cè)器，可以滿(mǎn)足各種不同的應(yīng)用需求：顆粒物、表面構(gòu)型、納米結(jié)構(gòu)、薄膜樣品、涂層以及膜層等樣品的成像。采用 Sigma 系列產(chǎn)品將使您在高端成像領(lǐng)域獲得一席之地，其中：Sigma 300 具有極高的性?xún)r(jià)比；而Sigma 500 以其領(lǐng)先的 EDS 幾何設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)卓越的分析性能。無(wú)論何種試樣，Sigma 都能以其高精確性及可重復(fù)的測(cè)量結(jié)果得到您的信賴(lài)！
靈活的探測(cè)手段獲取高分辨的圖像
Sigma 的最新探測(cè)器技術(shù)可以滿(mǎn)足不同需求。全方位的表征樣品的形貌，成分以及晶體結(jié)構(gòu)等?？蛇x的lnLens Duo 探測(cè)器可實(shí)現(xiàn)在一個(gè)探測(cè)器上獲取形貌和成分兩種信息，因而更進(jìn)一步擴(kuò)展 Sigma 的成像性能。全新一代的二次電子探測(cè)器，其信號(hào)強(qiáng)度比之前提高 50%，從而可實(shí)現(xiàn)更高對(duì)比度以及更高分辨率的圖像。另外，在低真空環(huán)境中，全新的C2D 和 VPSE 探測(cè)器可實(shí)現(xiàn)對(duì)比度優(yōu)于之前探測(cè)器85% 的清晰的圖像。
智能并加速工作流程
Sigma 的 4 步工作流程可控制查找 Sigma 的所有功能?？煽焖佾@取圖像，同時(shí)，節(jié)約在不同模式的了解時(shí)間，尤其在多用戶(hù)使用的情況下。第一步是圖像導(dǎo)航，在電鏡下直觀的進(jìn)行樣品的導(dǎo)航和定位；接著，只需簡(jiǎn)單的點(diǎn)擊鼠標(biāo)便自動(dòng)為不同樣品設(shè)置最優(yōu)的成像條件；下一步，使用自動(dòng)智能成像模式在樣品上定義感興趣區(qū)域，便可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)在多個(gè)樣品上自動(dòng)采集多組數(shù)據(jù)。最后，SmartBrowse 軟件將這些數(shù)據(jù)組處理并繪制成交互式的全景圖。這樣，對(duì)樣品便可有完整的理解。
先進(jìn)的分析系統(tǒng)
Sigma 頂尖的 EDS 幾何設(shè)計(jì)能夠增強(qiáng)分析能力，尤其是對(duì)電子束敏感的樣品?？蓪?shí)現(xiàn)在之前一半的束流下得到分析數(shù)據(jù)，同時(shí)測(cè)試速度比之前快一倍。Sigma 系列產(chǎn)品能夠提供快速完整的 X 射線(xiàn)分析及三維重構(gòu)。Sigma 將 EDS 探測(cè)器放置在 8.5mm 的工作距離和 35 度的出射角，通過(guò)將探測(cè)器的位置靠近樣品，可得到完全沒(méi)有陰影區(qū)域的分析結(jié)果。Sigma的先進(jìn)分析系統(tǒng)，可成為值得依賴(lài)的選擇。
